초순수용 자외선 산화공정(TOC-UV) 개발 |
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학술지명 환경공학회
저자 권병수,신동빈
발표일 2019-06-28
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전 세계적으로 물부족 현상의 심각함이 대두되면서, 다양한 수자원 확보와 물 재이용의 중요성이 강조되고 있는 실정이다. 반도체 및 전자 분야에 적용되는 초순수 공정은 요구수질이 더욱 높아지고 있으며, 높아지는 요구수질에 대응하기 위해서는 기존의 공정만으로 처리하기 어려운 물질들에 대한 효율적인 처리기준 확립을 통해 효과적인 공정설계 및 운영이 가능하다. 초순수 공정에서 유기물은 총유기탄소(TOC)로 측정이 되며 관리가 되는 실정이다. 최근 반도체 공정의 세밀화에 따라 TOC농도는 점차 낮아지는 추세이다. 기존 방식의 경우, 효율적인 설계 및 운영방식을 포함하고 있지 않는 한계가 있어 필요이상의 전처리 비용이 발생함에 따라 TOC농도에 따라 UV 램프의 선택적 점등을 통해 UV램프의 수명연장 및 전력소모를 줄임으로써 초순수 제조공정의 원가 절감 및 필요이상의 전처리 비용발생을 방지하고자 한다. 또한 TOC농도에 따른 UV조사량 Data 축적을 통해 초순수 제조공정상의 UV처리기준 확립이 필요하다. TOC 농도별 및 제거율에 따른 필요조사량을 정립함으로서 현장별로 최적화된 제품에 대한 설계기술을 체계적으로 구축하고, UV조사량에 따른 공정상의 영향 등을 파악하고자 한다. |