In the semiconductor and display production, purified water of high quality is required in large quantities. In this respect, using a pure water facilities of 25㎥/day scale was evaluated for the suitability and economics of processes. Ultrapure water facilities are divided into pre-treatment, pure water system, sub system. In ultrapure water facility operations, excessive dissolved oxygen will lower the lifetime of the ion exchange resin causing oxidation reactions and influence the other process on bacterial growth. Therefore, by applying the MDG and VDG processes were evaluated for removal efficiency of dissolved oxygen. Also, in accordance with the operation or not of the MDG process, total organic carbon(TOC) of the UV oxidation process was observed. MB process mainly used in ultrapure water facilities, it is difficult to operate and maintain because of the frequent chemical regeneration. In order to overcome this problem, EDI process without the need for a chemical regeneration was evaluated in comparison with MB process. Through the evaluation process, more efficient operation seeks.