반도체 제조 공정의 미세화로 로직 노드가 2nm 이하로 축소되고 향후 옹스트롬(A) 영역으로의 진입이 전망됨에 따라, 공정 핵심 용수인 초순수(UPW)의 불순물 제어 수준은 분자 단위의 극미량 영역(ppt~ppq)으로 급격히 강화되고 있다. 본 연구에서는 국내 초순수 국산화 성과와 더불어, 산업 품질 검증의 핵심 기반이 되는 측정 및 분석기술의 현황과 최신 기술 동향을 진단하고자 한다. 현재 초순수 품질 검증은 현장의 실시간 센서 기반 계측과 랩 기반의 초정밀 분석 기기(ICP-MS, LC-HRMS 등)의 상호 보완적 결합을 통해 이루어지고 있다. 그러나 최근 국제 로드맵 기준은 3.5 nm 이하의 미세 입자 제어뿐만 아니라, 용존 상태로 존재하다 건조 과정에서 웨이퍼 결함을 유발하는 ‘입자전구체’의 정밀한 추적까지 요구하고 있어 기존 방식의 한계 극복이 시급한 실정이다. 아울러 기후변화에 따른 원수 다변화 추세에 맞추어 보론, 저분자 유기물은 물론, 최근 글로벌 환경 이슈인 과불화화합물(PFAS)에 대응하는 분석의 중요성도 함께 대두되고 있다. 향후 초순수 분석기술은 이러한 오염원의 고감도 검출 능력을 확보하는 동시에, 축적된 데이터를 AI 및 디지털 트윈(DT)과 융합한 ‘지능형 예지보전 플랫폼’ 형태로 발전할 것으로 전망된다.